查看半年度报告中的面具曲目:研发投资的差异?

在2025年上半年,有四家A股核心面具公司的报告,longtu optoelectronics,luwei optoelectronics,Qingyi optoelectronics和Guanshi Technology均依次披露,这一高势轨道上的最新发展已经浮出水面。 Jiwei.com试图通过约会基本维度,例如研发,人才储备,专利开发和技术发展,以恢复本竞赛的突破状况以及国内面具公司在本赛事中的未来趋势。
研发投资:中国西地增长法规的访谈
研发成本是公司技术竞赛的“燃料”。在2025年上半年,四家公司的研发成本提出了不同的模式。清金光电学先前的研发成本为2485万元,但同比同比为2.48%。尽管Longtu光电的研发成本为1179万元,但它的增长年份为10.22%,在四个公司中表现良好es; Guanshi Technology和Luwei光电的研发成本分别为1,951万元和1,801万元,同比下降15.92%和9.59%。
从研发成本比例来看,Longtu光学面具在市场之前以10.17%的速度在市场之前,比其他三家公司多,表现出对研发的“沉重持有”态度;青年光光电学为4%,luwei光电学为3.31%,而鸟海技术为2.82%。 Longtu光学面具的高成本与战略行动密切相关,例如制造Zhuhai工厂和高端流程的布局,以及为随后的技术突破和扩大Merkado的累积力量。
研发人员的规模和比例是技术人才储备的直观反映。 2025年6月30日,青年光光电学成为了106名R&D人员的“大人才球员”,其次是97 Guanshi Technology,56 Lubei Optoelectronics和43个Longtu Optoelectronics。
在研发人员的比例方面El,Qingyi Optoelectronics拥有16.54%,Longtu Opelectronics的占16.48%,Luwei光电子学的空间很小,而Guanshi Technology的空间却很小,为12.52%。它表明,除了鸟海的技术外,其他三家公司保持了高密度的研发人才,为现代技术提供了力量支持。
专利是研发结果的“硬货币”。青年光光电学总共获得了84项专利和18项发明专利;尽管Luwei Optoelectronics拥有67份专利,但它拥有22项发明专利,首先排名四家公司。 Guanshi Technology和Longtu光电学分别具有72和70项专利,14和13发明专利。发明专利的数量反映了公司在基本技术领域的成功。 Luwei光电学的性能特别出色,显示了其在基本技术中的成就。
技术实力:每个人都表现出其优势,国内替代加速s
青年光电子学:领导显示字段,结合其领先位置
在平板显示面具版本的领域,青年光电子在第四世界中,在中国第一个。根据OMDIA数据,平板在2024年第四个世界中显示蒙版价值的掩模销售。该功能包含8.6一代高级TFT蒙版版本,6代中等高级AMOLED/LTPS面膜版本等。2025年上半年,该公司的质量量表及其中等型号的泥浆量(High-End End-End End-End Enderbrane suble and Membrane sublane and Membrane suble and Membrane suble and Membrane ask)版本(H)超高级HTM。计划和开发了OLED HTM和高规格相位移动面具版本(PSM),这继续将其技术优势结合在显示字段中。
在半导体芯片面膜版本的领域中,Qingyi光电学已经实现了180nm的180nm工艺的批量生产和150nm的小规模质量生产,并用于I诸如I等领域GBT,Silicon Rods等。Semi预计中国的半导体芯片版本的芯片芯片将在2025年要求6.95亿美元,但国内制造能较弱,这取决于国外。通过止痛的研究和发育能力,青年光光电学加速了半导体芯片面膜版本的国内生产率。
Lubei光电学:频繁的技术突破,在国外销毁垄断
Luwei光电学在许多技术领域都取得了突破,并缩小了外国顶级公司的差距。在G11高精度超大版本的面具领域中,该公司是中国唯一掌握这项技术的公司,该公司在第四世界中排名第四。在半色调面具版本的领域中,它意识到了所有世代的产品的质量,破坏了长期的外国垄断。在PSM领域,它完成了面具转移过程的技术的研究和开发,一些产品涉及e通过质量或通过的客户验证;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;在光吸涂层的领域,它将独立开发高主要的技术和大尺寸技术,以实现工业链的向上扩展。
凭借其技术优势,Luwei光电学已经建立了丰富的产品矩阵。在展示领域,这是中国唯一可以完全支持各个世代的面板生产线的本地企业,涵盖了整个展示技术。在半导体领域,它实现了180nm工艺的质量生产和150nm/130nm的小批次,其产品涵盖了与半导体相关的半导体相关场。同时,该公司已投资于Luxin半导体130-28NM项目的建设。将其投入生产后,它将改善半导体场中的布局并促进圆顶替换。
Longtu摄影剂:释放能力 +技术突破,针对HIGH端过程
作为一家艰难的独立第三方半导体面具制造商,在2025年上半年,Longtu光学面具已成功地从事劳动力,这已成为主要的开发节点。第三代PSM蒙版的版本已经取得了进步,90nm节点产品从研发到质量产生,65nm节点样本交付和验证以及高端过程的影响得到增强。该公司加深了与领先的国内晶圆厂的合作,并且将在下半年证明高级产品。将来,该过程将扩展到65nm甚至更高,并且下游应用程序字段将扩展。
在2025年上半年,尽管由于容量瓶颈,战略价格和客户获得安排的能力,操作的组件的收入下降了,但第二季度拒绝范围缩小。通过新的Zhuhai工厂生产电容Y以及在高级包装领域的客户的发展,公司的收入和净利润预计将逐渐增长。同时,该公司继续增加研发投资,其研发成本在2025年上半年增加了10.22%,为整个第三代半导体面罩的R&D过程提供了支持,并维持技术收益。
Guanshi技术:新生产线降级,针对先进的制造过程
Guanshi Technology的子公司Ningbo Guanshi Project的Photask版本20ON示例交付的验证进入了25年的上半年。尽管量表规模很小,但它很快就发展起来。 “光掩模版制造项目”于2023年5月启动,于2025年3月的55纳米版本版本和40纳米生产线的传输填充了国内高级光量流程和DESTRR外国垄断。
当前,相关的过程产品正在使客户验证和流动流的完美开发。完成该项目并投入劳动力后,该公司将成为中国先进技术的光鞋版本的独立制造商,从而提高了我国半导体行业控制的安全性和能力。在2025年上半年,该项目的营业收入达到了71.688亿元,其潜在的增长发展了希望。
概括
在2025年上半年,这家四个A共享核心面具公司在这场“ ARM Race”中的突破性在高级式轨道上取得了突破,为半导体发展和我国家的行业示范提供了更稳定的支持。
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